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石英坩堝：

  電弧石英坩堝采用進口高純石英粉作原料，利用離心作用在真空狀態下熔制，產品采用國際上^先進的四步法清洗，在萬級凈化間烘干并采用真空包裝方法保證產品的潔凈度。

產品用途：

  電弧石英坩堝適用于拉制單晶硅等。坩堝材料：電弧石英坩堝的原料選用美國優質石英粉，其二氧化硅含量在99.9985%以上。

坩堝結構特點：

  電弧石英坩堝采用獨特的真空熔制方法制造而成，在坩堝的內表面形成厚度約為2～3mm的透明石英玻璃層，因此在進行單晶硅的拉制過程中可有效抑制坩堝體內氣泡的逸出，阻止單晶硅微缺陷的產生。用電弧法制的的半導體半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發展大規格集成電路必不可少的基礎材料。當今世界半導體工業發達國家已用這種坩堝取代了小的透明石英坩堝。它具有高純度、尺寸大、精度高、耐溫性強、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。

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